真空蒸镀方法(真空蒸镀的工艺流程)

1.真空蒸镀的工艺流程

1、脱脂处理 用丙酮或酒精进行清洗

2、表面处理（必要时） 电晕（corona）放电处理，紫外线照射处理等。

3、底面涂布/硬化处理（必要时）

为了得到精美的蒸镀膜，有时必须进行底面涂布处理。进行底面涂布处理可以得到以下的效果：

(1)、改善树脂与蒸镀膜之间的密接性

(2)、将成型品表面的微小凹凸部分填平，以获得如镜面一样的表面

无论是为了得到反射镜作用而实施真空蒸镀，还是对密接性较低的夺钢进行真空蒸镀时，都必须进行底面涂布处理。底面涂布工艺基本与涂布工艺相似。如一般的涂料一样，可以使用喷枪进行喷涂。

4、真空蒸镀工艺 蒸镀金属为铝、金等。

5、表面涂布/硬化处理（必要时）

由真空蒸镀所产生的金属薄膜相当的薄，为了利用外界的化学、物理等性能，以达到保护蒸镀膜的目的，有时需要实施表面涂布处理（或过量涂布）。

2.蒸镀的蒸镀工艺

1、cvd用原料化合物及其制造方法及铱或铱化合物薄膜的化学气相蒸镀法

2、cvd用原料化合物及铱或铱化合物薄膜的化学气相蒸镀方法

3、cvd用原料化合物以及钌或钌化合物薄膜的化学气相蒸镀方法

4、彩色阴极射线管及其制造方法和蒸镀用复合材料

5、层压薄膜和使用它的蒸镀薄膜

6、除尘装置、蒸镀机台及以其进行清洁遮罩的方法

7、带有磁铁的等离子体的连续蒸镀装置

8、等离子体蒸镀设备防止凝缩装置

9、电激发光显示板的制造方法及蒸镀遮罩

10、电激发光元件的制造方法及蒸镀遮罩

11、改进型蒸镀方法

12、高温超导薄膜双面蒸镀技术及其装置

13、金属蒸镀薄膜、其制造方法及使用它的电容器

14、利用等离子体的高分子膜连续蒸镀装备的电极固定装置

15、利用等离子体的高分子膜连续蒸镀装置清洗方法

16、利用蒸镀夹具的手机外壳emi层真空蒸镀方法及夹具

17、连续式蒸镀溅镀机

18、免蒸镀的硬式带式自动焊接封装方法

19、锌蒸镀薄膜及金属化薄膜电容器

20、掩模蒸镀方法及装置、掩模及其制造方法、显示板制造装置

21、氧化镁蒸镀材料

22、一氧化硅蒸镀材料及其制造方法、制造原料和制造装置

23、一氧化硅蒸镀材料及其制造方法

24、一种利用强电场的真空热蒸镀成膜方法

25、一种用于半导体激光器腔面蒸镀的非接触固定方式的夹具

26、阴极电弧蒸镀方式淀积类金刚石碳膜的制备方法

27、用于镭射压印蒸镀的双向拉伸聚丙烯基膜

28、用于镭射压印蒸镀的双向拉伸聚丙烯基膜及其制造方法

29、用于生产高折射率光学涂层的蒸镀用材料

30、用于制作有机电致发光显示器的蒸镀装置

31、有机el元件制造用蒸镀装置的室内的清洗方法

32、有机场致发光膜蒸镀用蒸镀源

33、有机发光二极管蒸镀机台

34、有机膜蒸镀方法

35、在光学基片上蒸镀镀膜的方法

36、在光学基片上蒸镀镀膜的真空镀膜设备

37、真空电弧蒸镀方法及装置

38、真空蒸镀设备用的蒸镀装置

39、蒸镀材料及其利用该材料制造光学薄膜

40、蒸镀材料其制备方法和用该材料制备光学涂层方法

41、蒸镀方法及显示装置的制造方法

42、蒸镀方法及蒸镀装置

43、蒸镀膜

44、蒸镀掩模及制法、显示装置及制法以及具有其的电子机器

45、蒸镀用坩锅

46、蒸镀用掩模及其制造方法

47、蒸镀装置

48、蒸镀装置

49、蒸镀装置

50、蒸镀装置

51、直接蒸镀用树脂组合物、使用该组合物的模塑制品以及表面金属化处理的灯罩

52、制作电致发光显示器的、使用电磁铁的蒸镀装置及采用此装置的蒸镀方法

3.什么是真空溅镀,它与真空蒸镀有什么区别

真空溅镀，是真空溅射镀膜的简称，是一种物理镀膜的方法.

真空镀膜主要指一类需要在较高真空度下进行的镀膜，具体包括很多种类，包括真空离子蒸发，磁控溅射，MBE分子束外延，PLD激光溅射沉积等很多种。主要思路是分成蒸发和溅射两种。

需要镀膜的被称为基片，镀的材料被成为靶材。 基片与靶材同在真空腔中。

蒸发镀膜一般是加热靶材使表面组分以原子团或离子形式被蒸发出来，并且沉降在基片表面，通过成膜过程（散点-岛状结构-迷走结构-层状生长）形成薄膜。

对于溅射类镀膜，可以简单理解为利用电子或高能激光轰击靶材，并使表面组分以原子团或离子形式被溅射出来，并且最终沉积在基片表面，经历成膜过程，最终形成薄膜。

4.请问"水镀","蒸镀"的详细解释（工艺）

真空蒸镀法是在高真空下为金属加热，使其熔融、蒸发，冷却后在样品表面形成金属薄膜的方法。

加热金属的方法：有利用电阻产生的热能，也有利用电子束的。 在对树脂实施蒸镀时，为了确保金属冷却时所散发出的热量不使树脂变形，有必须对蒸镀时间进行调整。

此外，熔点、沸点太高的金属或合金不适合于蒸镀。 水镀其工艺过程为：针对各种本体和镀层的需要，配有不同的专用“水镀”液，被镀金属在室温（15—40℃）下，置于水镀液中，作轻微晃动，在较短的时间内（如镀银，仅需30秒）即可完成。

5.什么是真空电镀,都有那些工序

湿法工艺：

1.化学浸镀

2.电镀

3.喷导电涂料

干法工艺

1.真空蒸镀

2.阴极溅镀

3.离子镀

4.烫金

5.熔融喷镀

真空蒸镀法是在高度真空条件下加热金属，使其熔融、蒸发，冷却后在塑料表面形成金属薄膜的方法。常用的金属是铝等低熔点金属。

加热金属的方法：有利用电阻产生的热能，也有利用电子束的。

在对塑料制品实施蒸镀时，为了确保金属冷却时所散发出的热量不使树脂变形，必须对蒸镀时间进行调整。此外，熔点、沸点太高的金属或合金不适合于蒸镀。

置待镀金属和被镀塑料制品于真空室内，采用一定方法加热待镀材料，使金属蒸发或升华，金属蒸汽遇到冷的塑料制品表面凝聚成金属薄膜。

在真空条件下可减少蒸发材料的原子、分子在飞向塑料制品过程中和其他分子的碰撞，减少气体中的活性分子和蒸发源材料间的化学反应（如氧化等），从而提供膜层的致密度、纯度、沉积速率和与附着力。通常真空蒸镀要求成膜室内压力等于或低于10-2Pa，对于蒸发源与被镀制品和薄膜质量要求很高的场合，则要求压力更低（ 10-5Pa ）。

镀层厚度0.04-0.1um，太薄，反射率低；太厚，附着力差，易脱落。厚度0.04时反射率为90%

6.真空蒸镀与溅射镀膜优缺点

溅射比蒸镀和工作真空低一个数量级，所以膜层的含气量要比蒸镀高.

蒸镀不适用于高溶点材料，如钼，钨，~~等.因为溶点高，蒸发太慢，而溅射的速度比蒸镀快很多.

溅射不适用于低硬度材料，如非金属材料.

溅射不适用于非导电材料.

蒸镀不能控制厚度，而溅射可以用时间控制厚度.

蒸镀不适应大规模的生产.

蒸镀的电子动能比溅射小很多，虽然含气量少，但是膜层易脱落，

溅射的膜均匀，蒸镀的膜中心点厚，四周薄.

在国内蒸镀工艺比溅射工艺成熟.

当然还有很多，一会也说不完.就看你主要想知道什么.

7.常用的物理镀膜方法有几种

一.光学镀膜材料（纯度：99.9%-99.9999%）

1. 高纯氧化物：

一氧化硅、SiO，二氧化铪、HfO2，二硼化铪，氯氧化铪，二氧化锆、ZrO2，二氧化钛、TiO2，一氧化钛、TiO，二氧化硅、SiO2，三氧化二钛、Ti2O3，五氧化三钛、Ti3O5，五氧化二钽、Ta2O5，五氧化二铌、Nb2O5，三氧化二铝、Al2O3，三氧化二钪、Sc2O3，三氧化二铟、In2O3，二钛酸镨、Pr(TiO3)2，二氧化铈、CeO2，氧化镁、MgO，三氧化钨、WO3，氧化钐、Sm2O3，氧化钕、Nd2O3，氧化铋、Bi2O3，氧化镨、Pr6O11，氧化锑、Sb2O3，氧化钒、V2O5，氧化镍、NiO，氧化锌、ZnO，氧化铁、Fe2O3，氧化铬、Cr2O3，氧化铜、CuO等。

2. 高纯氟化物：

氟化镁、MgF2，氟化镱、YbF3，氟化钇、LaF3，氟化镝、DyF3，氟化钕、NdF3，氟化铒、ErF3，氟化钾、KF，氟化锶、SrF3，氟化钐、SmF3，氟化钠、NaF，氟化钡、BaF2，氟化铈、CeF3，氟化铅等。

4. 混合料：

氧化锆氧化钛混合料，氧化锆氧化钽混合料，氧化钛氧化钽混合料，氧化锆氧化钇混合料，氧化钛氧化铌混合料，氧化锆氧化铝混合料，氧化镁氧化铝混合料，氧化铟氧化锡混合料，氧化锡氧化铟混合料，氟化铈氟化钙混合料等混合料

3. 高纯金属类：

高纯铝，高纯铝丝，高纯铝粒，高纯铝片，高纯铝柱，高纯铬粒，高纯铬粉，铬条，高纯金丝，高纯金片，高纯金，高纯金粒，高纯银丝，高纯银粒，高纯银，高纯银片，高纯铂丝，高纯铪粉，高纯铪丝，高纯铪粒，高纯钨粒，高纯钼粒，高纯单晶硅，高纯多晶硅，高纯锗粒，，高纯锰粒，高纯钴，高纯钴粒，高纯钼，高纯钼片，高纯铌，高纯锡粒，高纯锡丝，高纯钨粒，高纯锌粒，高纯钒粒，高纯铁粒，高纯铁粉，海面钛，高纯锆丝，高纯锆，海绵锆，碘化锆，高纯锆粒，高纯锆块，高纯碲粒，高纯锗粒， 高纯钛片，高纯钛粒，高纯镍，高纯镍丝，高纯镍片，高纯镍柱，高纯钽片，高纯钽，高纯钽丝，高纯钽粒，高纯镍铬丝，高纯镍铬粒，高纯镧，高纯镨，高纯钆，高纯铈，高纯铽，高纯钬，高纯钇，高纯镱，高纯铥，高纯铼，高纯铑，高纯钯，高纯铱等.

5. 其他化合物：

钛酸钡，BaTiO3，钛酸镨，PrTiO3，钛酸锶，SrTiO3，钛酸镧，LaTiO3，硫化锌，ZnS，冰晶石，Na3AlF6，硒化锌，ZnSe，硫化镉。

6. 辅料：

钼片，钼舟、钽片、钨片、钨舟、钨绞丝。